sample_b (sm4 - asm)

  • 發行項

使用指定的位址和指定取樣器所識別的篩選模式，從指定的元素/紋理取樣資料。

sample_b[_aoffimmi (u，v，w) ] dest[.mask]， srcAddress[.swizzle]， srcResource[.swizzle]， srcSampler， srcLODBias.select_component
項目 描述
dest
 [in]作業結果的位址。
srcAddress
 [in]一組紋理座標。 如需詳細資訊，請參閱 範例 指示。
srcResource
 [in]紋理暫存器。 如需詳細資訊，請參閱 範例 指示。
srcSampler
 [in]取樣器暫存器。 如需詳細資訊，請參閱 範例 指示。
srcLODBias
 [in]如需此參數的相關資訊，請參閱一節。

備註

來源資料可能來自緩衝區以外的任何資源類型。 額外的偏差會套用至在指令執行過程中計算的詳細資料層級。

此指令的行為就像 範例 指令一樣，其中新增了將指定的 srcLODBias 值套用至在指令執行過程中計算的詳細資料值層級，再選取 mip 對應 (s) 。 srcLODBias值會以每圖元為基礎新增至計算的 LOD，以及取樣器 MipLODBias 值，然後才對 MinLOD 和 MaxLOD 進行限制。

Restrictions

  • sample_b 繼承與 範例 指令相同的限制，以及其其他參數的額外限制。
  • srcLODBias的範圍 (-16.0f 到 15.99f) ;超出此範圍的值會產生未定義的結果。
  • srcLODBias 如果單一元件選取器不是純量，則必須使用單一元件選取器。

本指示適用于下列著色器階段：

頂點著色器 幾何著色器 像素著色器
x

最小著色器模型

下列著色器模型中支援此函式。

著色器模型 支援
著色器模型 5 是
著色器模型 4.1 是
著色器模型 4 是
著色器模型 3 (DirectX HLSL) 否
著色器模型 2 (DirectX HLSL) 否
著色器模型 1 (DirectX HLSL) 否

著色器模型 4 元件 (DirectX HLSL)