sample_b (sm4 - asm)
使用指定的位址和指定取樣器所識別的篩選模式，從指定的元素/紋理取樣資料。
| sample_b[_aoffimmi (u，v，w) ] dest[.mask]， srcAddress[.swizzle]， srcResource[.swizzle]， srcSampler， srcLODBias.select_component |
|---|
| 項目 | 描述 |
|---|---|
|
dest |
[in]作業結果的位址。 |
|
srcAddress |
[in]一組紋理座標。 如需詳細資訊，請參閱 範例 指示。 |
|
srcResource |
[in]紋理暫存器。 如需詳細資訊，請參閱 範例 指示。 |
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srcSampler |
[in]取樣器暫存器。 如需詳細資訊，請參閱 範例 指示。 |
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srcLODBias |
[in]如需此參數的相關資訊，請參閱一節。 |
備註
來源資料可能來自緩衝區以外的任何資源類型。 額外的偏差會套用至在指令執行過程中計算的詳細資料層級。
此指令的行為就像 範例 指令一樣，其中新增了將指定的 srcLODBias 值套用至在指令執行過程中計算的詳細資料值層級，再選取 mip 對應 (s) 。 srcLODBias值會以每圖元為基礎新增至計算的 LOD，以及取樣器 MipLODBias 值，然後才對 MinLOD 和 MaxLOD 進行限制。
Restrictions
- sample_b 繼承與 範例 指令相同的限制，以及其其他參數的額外限制。
- srcLODBias的範圍 (-16.0f 到 15.99f) ;超出此範圍的值會產生未定義的結果。
- srcLODBias 如果單一元件選取器不是純量，則必須使用單一元件選取器。
本指示適用于下列著色器階段：
| 頂點著色器 | 幾何著色器 | 像素著色器 |
|---|---|---|
| x |
最小著色器模型
下列著色器模型中支援此函式。
| 著色器模型 | 支援 |
|---|---|
| 著色器模型 5 | 是 |
| 著色器模型 4.1 | 是 |
| 著色器模型 4 | 是 |
| 著色器模型 3 (DirectX HLSL) | 否 |
| 著色器模型 2 (DirectX HLSL) | 否 |
| 著色器模型 1 (DirectX HLSL) | 否 |