sample_l (sm4 - asm)
使用指定的位址和指定取樣器所識別的篩選模式，從指定的元素/紋理取樣資料。
| sample_l[_aoffimmi (u，v，w) ] dest[.mask]， srcAddress[.swizzle]， srcResource[.swizzle]， srcSampler， srcLOD.select_component |
|---|
| 項目 | 描述 |
|---|---|
|
dest |
[in]作業結果的位址。 |
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srcAddress |
[in]一組紋理座標。 如需詳細資訊，請參閱 範例 指示。 |
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srcResource |
[in]紋理暫存器。 如需詳細資訊，請參閱 範例 指示。 |
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srcSampler |
[in]取樣器暫存器。 如需詳細資訊，請參閱 範例 指示。 |
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srcLOD |
[in]LOD。 |
備註
此指令與 範例相同，不同之處在于，LOD 是由應用程式直接提供為純量值，表示沒有等向性。 此指示適用于所有可 Progammable 著色器階段。
sample_l 使用 srcLOD 做為 LOD 的紋理取樣。 如果 LOD 值為 < = 0，則會選擇 (最大的地圖) ，如果根據篩選模式) 適用，則會套用放大篩選器 (。 由於 srcLOD 是浮點值，因此如果 minify 篩選準則為 LINEAR 或具有等向性篩選，則會使用小數值在兩個 mip 層級之間插補。
sample_l 忽略位址衍生專案，因此篩選行為只是等向性。 因為會忽略衍生專案，所以等向性篩選會以等向性篩選方式運作。
接受取樣器狀態 MIPLODBIAS 和 MAX/MINMIPLEVEL。
在圖元著色器中使用時， sample_l 表示 LOD 的選擇是每圖元，而鄰近圖元沒有任何作用，例如在相同的 2x2 戳記中。
從沒有任何系結的輸入位置擷取會針對所有元件傳回 0。
本指示適用于下列著色器階段：
| 頂點著色器 | 幾何著色器 | 像素著色器 |
|---|---|---|
| X | X | x |
最小著色器模型
下列著色器模型中支援此函式。
| 著色器模型 | 支援 |
|---|---|
| 著色器模型 5 | 是 |
| 著色器模型 4.1 | 是 |
| 著色器模型 4 | 是 |
| 著色器模型 3 (DirectX HLSL) | 否 |
| 著色器模型 2 (DirectX HLSL) | 否 |
| 著色器模型 1 (DirectX HLSL) | 否 |